Pattern forming method, transistor manufacturing method, and film for pattern formation

WO2020100710 Art A1 22. Mai 2020

Anmelder: NIKON CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020100710
Aktenzeichen: EP19883585
Anmeldetag: 7. November 2019
Veröffentlichung: 22. Mai 2020
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/075G03F7/11G03F7/20C23C18/20C23C18/28

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: NIKON CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik Optik & Fototechnik

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