Silicon nitride etching composition and method

WO2020102228 Art A1 22. Mai 2020

Anmelder: ENTEGRIS, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020102228
Aktenzeichen: EP19884697
Anmeldetag: 12. November 2019
Veröffentlichung: 22. Mai 2020
Rechtsraum: WO
IPC: C09K13/06C09K13/08H01L21/306H01L21/311

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ENTEGRIS, INC.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Entegris

US-amerikanischer Hersteller von Spezialmaterialien und Filtrationslösungen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Massachusetts.

1.106 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von

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