High permittivity and low leakage dielectric thin film materials

WO2020102413 Art A1 22. Mai 2020

Anmelder: DREXEL UNIVERSITY, GOLOVINA, Iryna, S., PLOKHIKH, Aleksandr, V., SPANIER, Jonathan, E. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020102413
Aktenzeichen: EP19884391
Anmeldetag: 13. November 2019
Veröffentlichung: 22. Mai 2020
Rechtsraum: WO
IPC: H01G4/12H01L21/3105H01L21/316H01L21/318

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: DREXEL UNIVERSITY
GOLOVINA, Iryna, S.
PLOKHIKH, Aleksandr, V.
SPANIER, Jonathan, E.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Drexel University

Die Drexel University ist eine private Universität in Philadelphia, USA, mit breit gefächerter technischer und medizinischer Forschung. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Medizintechnik und Gesundheit sowie Halbleiter- und Werkstofftechnik, ergänzt durch Mess- und Verfahrenstechnik. Anmeldungen reichen von 2000 bis in die Gegenwart.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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