Nanocrystalline High-K Low-Leakage Thin Films

WO2020102416 Art A1 22. Mai 2020

Anmelder: DREXEL UNIVERSITY, SPANIER, Jonathan, E., GOLOVINA, Iryna, S., PLOKHIKH, Aleksandr, V. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020102416
Aktenzeichen: EP19885536
Anmeldetag: 13. November 2019
Veröffentlichung: 22. Mai 2020
Rechtsraum: WO
IPC: H01L51/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: DREXEL UNIVERSITY
SPANIER, Jonathan, E.
GOLOVINA, Iryna, S.
PLOKHIKH, Aleksandr, V.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Drexel University

Die Drexel University ist eine private Universität in Philadelphia, USA, mit breit gefächerter technischer und medizinischer Forschung. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Medizintechnik und Gesundheit sowie Halbleiter- und Werkstofftechnik, ergänzt durch Mess- und Verfahrenstechnik. Anmeldungen reichen von 2000 bis in die Gegenwart.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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