Method for manufacturing suspended graphene support film by selectively etching growth substrate

WO2020103605 Art A1 28. Mai 2020

Anmelder: PEKING UNIVERSITY 🇨🇳

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020103605
Aktenzeichen: EP19887721
Anmeldetag: 14. Oktober 2019
Veröffentlichung: 28. Mai 2020
Rechtsraum: WO
IPC: C01B32/194

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Abstract

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Anmelder

Firma: PEKING UNIVERSITY
Land: 🇨🇳 China

🇨🇳 Peking University

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe

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