Method for critical dimension measurement on a substrate, and apparatus for inspecting and cutting an electronic device on the substrate
WO2020104031
Art A1
28. Mai 2020
Anmelder: APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2020104031
- Aktenzeichen
- EP18811181
- Anmeldetag
- 22. November 2018
- Veröffentlichung
- 28. Mai 2020
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/66G03F7/00G01N21/95H01L21/67H01J37/30
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- APPLIED MATERIALS, INC.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
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