Defect inspection device and defect inspection method

WO2020105319 Art A1 28. Mai 2020

Anmelder: HITACHI HIGH-TECH CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020105319
Aktenzeichen: EP19886221
Anmeldetag: 16. Oktober 2019
Veröffentlichung: 28. Mai 2020
Rechtsraum: WO
IPC: G01N21/956G03F1/84H01L21/66

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: HITACHI HIGH-TECH CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

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