Film formation material for lithography, composition for forming film for lithography, underlayer film for lithography and pattern forming method

WO2020105692 Art A1 28. Mai 2020

Anmelder: MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020105692
Aktenzeichen: EP19887177
Anmeldetag: 21. November 2019
Veröffentlichung: 28. Mai 2020
Rechtsraum: WO
IPC: C08G73/12G03F7/039G03F7/11G03F7/20G03F7/40H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsubishi Gas Chemical Company

Japanisches Chemieunternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Fokus auf technische Kunststoffe, Methanol und Spezialchemikalien. Der Konzern beliefert unter anderem die Elektronik- und Verpackungsindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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