Film-forming material for lithography, film-forming composition for lithography, lower layer film for lithography, and pattern-forming method

WO2020105694 Art A1 28. Mai 2020

Anmelder: MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020105694
Aktenzeichen: EP19886912
Anmeldetag: 21. November 2019
Veröffentlichung: 28. Mai 2020
Rechtsraum: WO
IPC: C07D207/452C08G73/12C08F2/48G03F7/11G03F7/20G03F7/26

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsubishi Gas Chemical Company

Japanisches Chemieunternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Fokus auf technische Kunststoffe, Methanol und Spezialchemikalien. Der Konzern beliefert unter anderem die Elektronik- und Verpackungsindustrie.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Organische Chemie

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