Method for determining root causes of events of a semiconductor manufacturing process and for monitoring a semiconductor manufacturing process

WO2020108862 Art A1 4. Juni 2020

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2020108862
Aktenzeichen
EP19789982
Anmeldetag
21. Oktober 2019
Veröffentlichung
4. Juni 2020
Rechtsraum
WO
IPC
G05B19/409G05B19/418
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
ASML NETHERLANDS B.V.
Land
🇳🇱 Niederlande
🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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