Systems and methods of cooling objective lens of a charged-particle beam system
WO2020108984
Art A2
4. Juni 2020
Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2020108984
- Aktenzeichen
- EP19805913
- Anmeldetag
- 12. November 2019
- Veröffentlichung
- 4. Juni 2020
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01J37/141B33Y80/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML NETHERLANDS B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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