Super-junction silicon carbide semiconductor device and method for manufacturing super-junction silicon carbide semiconductor device
WO2020110514
Art A1
4. Juni 2020
Anmelder: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA, FUJI ELECTRIC CO., LTD., NATIONALINSTITUTE OF ADVANCED INDUSTRIAL SCIENCE A 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2020110514
- Aktenzeichen
- EP19890673
- Anmeldetag
- 18. Oktober 2019
- Veröffentlichung
- 4. Juni 2020
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L29/78H01L21/336H01L29/06H01L29/12
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA
FUJI ELECTRIC CO., LTD.
NATIONALINSTITUTE OF ADVANCED INDUSTRIAL SCIENCE A - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Toshiba
Japanischer Konzern, der Elektronik, Halbleiter, Energie- und Infrastrukturtechnik sowie Industrieanlagen entwickelt und herstellt.
5.205 Patente in unserer Datenbank
🇯🇵
Fuji Electric
Japanischer Elektrotechnikkonzern mit Sitz in Tokio, tätig in den Bereichen Leistungshalbleiter, Energieerzeugungsanlagen und industrielle Automatisierungstechnik.
1.450 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Kein Vertreter erfasst.