High Resolution Two-Dimensional Resistance Tomography
WO2020113157
Art A1
4. Juni 2020
Anmelder: NORTHWESTERN UNIVERSITY 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2020113157
- Aktenzeichen
- EP19891619
- Anmeldetag
- 29. November 2019
- Veröffentlichung
- 4. Juni 2020
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- A61B5/03A61B5/00A61B6/00A61B6/03
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- NORTHWESTERN UNIVERSITY
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Northwestern University
Private US-amerikanische Universität mit Hauptsitz in Evanston, Illinois, bekannt für Forschung in Ingenieurwissenschaften, Medizin und Materialwissenschaften.
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