Method for adjusting a target feature in a model of a patterning process based on local electric fields

WO2020114729 Art A1 11. Juni 2020

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020114729
Aktenzeichen: EP19798663
Anmeldetag: 12. November 2019
Veröffentlichung: 11. Juni 2020
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G03F1/70

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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