Charged particle source and charged particle beam device

WO2020115825 Art A1 11. Juni 2020

Anmelder: HITACHI HIGH-TECH CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020115825
Aktenzeichen: EP18942038
Anmeldetag: 5. Dezember 2018
Veröffentlichung: 11. Juni 2020
Rechtsraum: WO
IPC: H01J1/304H01J9/02H01J37/06H01J37/073

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: HITACHI HIGH-TECH CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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