Plasma processing apparatus and plasma processing method

WO2020116245 Art A1 11. Juni 2020

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED, TOHOKU UNIVERSITY 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020116245
Aktenzeichen: EP19892822
Anmeldetag: 26. November 2019
Veröffentlichung: 11. Juni 2020
Rechtsraum: WO
IPC: H05H1/46H01L21/205H01L21/3065H01L21/31C23C16/455C23C16/50

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: TOKYO ELECTRON LIMITED
TOHOKU UNIVERSITY
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

🇯🇵 Tohoku University

Staatliche Universität in Sendai, Japan, mit Forschungsschwerpunkten unter anderem in Materialwissenschaften und Werkstofftechnik.

837 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von