Plasma processing device and lower stage

WO2020116247 Art A1 11. Juni 2020

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED, TOHOKU UNIVERSITY 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020116247
Aktenzeichen: EP19892079
Anmeldetag: 26. November 2019
Veröffentlichung: 11. Juni 2020
Rechtsraum: WO
IPC: H05H1/46H01L21/683

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: TOKYO ELECTRON LIMITED
TOHOKU UNIVERSITY
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

🇯🇵 Tohoku University

Staatliche Universität in Sendai, Japan, mit Forschungsschwerpunkten unter anderem in Materialwissenschaften und Werkstofftechnik.

837 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von