Raw material for chemical vapor deposition comprising ruthenium complex and chemical vapor deposition method using said raw material for chemical vapor deposition

WO2020116364 Art A1 11. Juni 2020

Anmelder: TANAKA KIKINZOKU KOGYO K.K. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020116364
Aktenzeichen: EP19893990
Anmeldetag: 2. Dezember 2019
Veröffentlichung: 11. Juni 2020
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/18H01L21/285C07F15/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TANAKA KIKINZOKU KOGYO K.K.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tanaka Kikinzoku Kogyo

Tanaka Kikinzoku Kogyo ist ein japanisches Unternehmen für Edelmetallverarbeitung mit Sitz in Tokio. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Metallurgie und Oberflächentechnik sowie Halbleiter und elektrische Bauelemente, ergänzt um Fertigungs- und Verfahrenstechnik. Anmeldungen decken den Zeitraum 2000 bis 2023 ab.

430 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik Organische Chemie

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