System and method for difference filter and aperture selection using shallow deep learning
WO2020118126
Art A1
11. Juni 2020
Anmelder: KLA CORPORATION 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2020118126
- Aktenzeichen
- EP19894191
- Anmeldetag
- 6. Dezember 2019
- Veröffentlichung
- 11. Juni 2020
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G06T7/00G06T5/20G06T7/11
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- KLA CORPORATION
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
KLA Corporation
US-amerikanisches Unternehmen (frühere Firmierung KLA-Tencor), das Prozesskontroll- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung entwickelt.
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