Apparatus and method for grouping image patterns to determine wafer behavior in a patterning process

WO2020120050 Art A1 18. Juni 2020

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020120050
Aktenzeichen: EP19805188
Anmeldetag: 12. November 2019
Veröffentlichung: 18. Juni 2020
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G06N20/00G06T7/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik Software & Datenverarbeitung

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