Method of measuring a parameter of a lithographic process

WO2020120082 Art A1 18. Juni 2020

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020120082
Aktenzeichen: EP19805962
Anmeldetag: 19. November 2019
Veröffentlichung: 18. Juni 2020
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G01N21/47

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

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