Verfahren zur Herstellung einer Epitaxierten Halbleiterscheibe
WO2020120577
Art A1
18. Juni 2020
Anmelder: SILTRONIC AG 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2020120577
- Aktenzeichen
- EP19820742
- Anmeldetag
- 11. Dezember 2019
- Veröffentlichung
- 18. Juni 2020
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C30B25/02C30B29/06C30B33/12H01L21/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- SILTRONIC AG
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Siltronic
Deutscher Halbleiterzulieferer mit Sitz in München. Siltronic stellt hochreine Siliziumwafer für die Chip- und Elektronikindustrie her.
375 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Kein Vertreter erfasst.