Method and apparatus for treating semiconductor substrate

WO2020120597 Art A1 18. Juni 2020

Anmelder: LAM RESEARCH AG 🇦🇹

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020120597
Aktenzeichen: EP19829020
Anmeldetag: 11. Dezember 2019
Veröffentlichung: 18. Juni 2020
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/02H01L21/311B81C1/00H01L21/67

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: LAM RESEARCH AG
Land: 🇦🇹 Österreich

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von