Raman scattering enhancement substrate and method for producing same

WO2020121916 Art A1 18. Juni 2020

Anmelder: THE UNIVERSITY OF TOKYO 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020121916
Aktenzeichen: EP19895446
Anmeldetag: 4. Dezember 2019
Veröffentlichung: 18. Juni 2020
Rechtsraum: WO
IPC: C08G61/12B82Y30/00B82Y40/00G01N21/65

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: THE UNIVERSITY OF TOKYO
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 University of Tokyo

Japanische Universität mit Sitz in Tokio, eine der führenden Forschungsuniversitäten Asiens. Die Universität ist in nahezu allen wissenschaftlichen und technischen Disziplinen aktiv, darunter Materialwissenschaften, Elektrotechnik, Biotechnologie und Medizin.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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