Photosensitive resin composition, method for producing resist pattern film, and method for producing shaped plating structure

WO2020121967 Art A1 18. Juni 2020

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020121967
Aktenzeichen: EP19895060
Anmeldetag: 6. Dezember 2019
Veröffentlichung: 18. Juni 2020
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004G03F7/039G03F7/20G03F7/40

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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