Method for manufacturing single-crystal semiconductor layer, structure comprising single-crystal semiconductor layer, and semiconductor device comprising structure
WO2020122516
Art A1
18. Juni 2020
Anmelder: INDUSTRY-UNIVERSITY COOPERATION FOUNDATION HANYANG 🇰🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2020122516
- Aktenzeichen
- EP19895468
- Anmeldetag
- 9. Dezember 2019
- Veröffentlichung
- 18. Juni 2020
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/02
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- INDUSTRY-UNIVERSITY COOPERATION FOUNDATION HANYANG
- Land
- 🇰🇷 Südkorea
🇰🇷
Industry-University Cooperation Foundation Hanyang
Die Industry-University Cooperation Foundation Hanyang ist die Forschungstransferstelle der Hanyang University in Südkorea. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Medizintechnik, ergänzt um Mess- und Prüftechnik und Software. Anmeldungen laufen von 2011 bis in die Gegenwart.
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