Method for manufacturing single-crystal semiconductor layer, structure comprising single-crystal semiconductor layer, and semiconductor device comprising structure

WO2020122516 Art A1 18. Juni 2020

Anmelder: INDUSTRY-UNIVERSITY COOPERATION FOUNDATION HANYANG 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2020122516
Aktenzeichen
EP19895468
Anmeldetag
9. Dezember 2019
Veröffentlichung
18. Juni 2020
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/02
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
INDUSTRY-UNIVERSITY COOPERATION FOUNDATION HANYANG
Land
🇰🇷 Südkorea
🇰🇷 Industry-University Cooperation Foundation Hanyang

Die Industry-University Cooperation Foundation Hanyang ist die Forschungstransferstelle der Hanyang University in Südkorea. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Medizintechnik, ergänzt um Mess- und Prüftechnik und Software. Anmeldungen laufen von 2011 bis in die Gegenwart.

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