Attachment Feature Removal From Photomask in Extreme Ultraviolet Lithography Application

WO2020123038 Art A1 18. Juni 2020

Anmelder: APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020123038
Aktenzeichen: EP19896636
Anmeldetag: 22. Oktober 2019
Veröffentlichung: 18. Juni 2020
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/033H01L21/78G03F7/42G03F7/34G03F1/62H01L21/687H01L21/67

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: APPLIED MATERIALS, INC.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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