Mold and method for manufacturing reflective layer of scintillator
WO2020125139
Art A1
25. Juni 2020
Anmelder: NUCTECH COMPANY LIMITED 🇨🇳
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2020125139
- Aktenzeichen
- EP19899956
- Anmeldetag
- 8. Oktober 2019
- Veröffentlichung
- 25. Juni 2020
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- B29D11/00C30B33/06G01T1/20G01T1/202
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- NUCTECH COMPANY LIMITED
- Land
- 🇨🇳 China
🇨🇳
Nuctech
Chinesisches Unternehmen mit Sitz in Peking, spezialisiert auf Sicherheitsscanner und Inspektionssysteme für Flughäfen, Häfen und Grenzübergänge.
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Vertreten von
Kein Vertreter erfasst.