Sacrifical device for protecting an optical element in a path of a high-power laser beam
WO2020126387
Art A2
25. Juni 2020
Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2020126387
- Aktenzeichen
- EP19809087
- Anmeldetag
- 28. November 2019
- Veröffentlichung
- 25. Juni 2020
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H05G2/00H01S3/00H01S3/034
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML NETHERLANDS B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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Vertreten von
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