Silicon fine particles and production method thereof

WO2020129499 Art A1 25. Juni 2020

Anmelder: TOKUYAMA CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020129499
Aktenzeichen: EP19900955
Anmeldetag: 15. November 2019
Veröffentlichung: 25. Juni 2020
Rechtsraum: WO
IPC: C01B33/02H01M4/38

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKUYAMA CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokuyama

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Shunan, gegründet 1918. Produziert unter anderem Spezialchemikalien, Zement und Halbleitermaterialien.

1.073 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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