Carbon hard mask, film forming device, and film forming method

WO2020129628 Art A1 25. Juni 2020

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED, NATIONAL UNIVERSITY CORPORATION TOKAI NATIONAL HIG 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020129628
Aktenzeichen: EP19899629
Anmeldetag: 4. Dezember 2019
Veröffentlichung: 25. Juni 2020
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/3065H01L21/31H01L21/314C23C16/26

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: TOKYO ELECTRON LIMITED
NATIONAL UNIVERSITY CORPORATION TOKAI NATIONAL HIG
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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🇯🇵 National University Corporation Tokai National Higher Education and Research System

Die National University Corporation Tokai National Higher Education and Research System ist ein japanischer Hochschulverbund mit medizinischem und naturwissenschaftlichem Forschungsschwerpunkt. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Medizintechnik und Halbleiterbauelemente, ergänzt durch Pharma-/Biotechnologie und Messtechnik. Die Anmeldungen aus 2019 bis 2025 reichen von Osteogenese-Fördermitteln bis zu Polymer-Elektrolytmembranen.

619 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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