Actinic-ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, method for forming pattern, and method for producing electronic device

WO2020129683 Art A1 25. Juni 2020

Anmelder: FUJIFILM CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020129683
Aktenzeichen: EP19900709
Anmeldetag: 5. Dezember 2019
Veröffentlichung: 25. Juni 2020
Rechtsraum: WO
IPC: C08F12/24C08F20/10C08F20/58C08F28/02G03F7/004G03F7/038G03F7/039

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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