Composition for forming substrate treatment film and method for cleaning semiconductor substrate

WO2020130094 Art A1 25. Juni 2020

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020130094
Aktenzeichen: EP19897756
Anmeldetag: 19. Dezember 2019
Veröffentlichung: 25. Juni 2020
Rechtsraum: WO
IPC: C08L61/08C11D7/22C11D7/26C11D7/50H01L21/304

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

2.270 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik

Vertreten von