Method of fabricating a semiconductor device having reduced contact resistance

WO2020131248 Art A1 25. Juni 2020

Anmelder: APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020131248
Aktenzeichen: EP19898793
Anmeldetag: 11. November 2019
Veröffentlichung: 25. Juni 2020
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/768H01L21/285H01L29/417

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: APPLIED MATERIALS, INC.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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