Apparatus and method for cleaning a support structure in a lithographic system

WO2020136048 Art A1 2. Juli 2020

Anmelder: ASML HOLDING N.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020136048
Aktenzeichen: EP19832629
Anmeldetag: 18. Dezember 2019
Veröffentlichung: 2. Juli 2020
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20B08B7/00H01L21/687

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML HOLDING N.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik Verfahrens- & Trenntechnik

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