Vapor deposition device and method for manufacturing epitaxial silicon wafer

WO2020137021 Art A1 2. Juli 2020

Anmelder: SUMCO CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020137021
Aktenzeichen: EP19903368
Anmeldetag: 11. September 2019
Veröffentlichung: 2. Juli 2020
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/205C23C16/24C23C16/458

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: SUMCO CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Sumco

Sumco ist ein japanischer Hersteller von Siliziumwafern für die Halbleiterindustrie. Das Patentportfolio konzentriert sich entsprechend auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Metallurgie- und Fertigungstechnik. Anmeldungen sind von 2000 bis in die Gegenwart belegt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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