Method for measuring plasma light-emission intensity distribution, semiconductor manufacturing device, and semiconductor device manufacturing method

WO2020137131 Art A1 2. Juli 2020

Anmelder: SUMITOMO ELECTRIC INDUSTRIES, LTD., TOHOKU UNIVERSITY 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020137131
Aktenzeichen: EP19906069
Anmeldetag: 28. Oktober 2019
Veröffentlichung: 2. Juli 2020
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/3065H05H1/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: SUMITOMO ELECTRIC INDUSTRIES, LTD.
TOHOKU UNIVERSITY
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Sumitomo Electric Industries

Japanischer Technologiekonzern mit Sitz in Osaka, Teil der Sumitomo-Gruppe. Aktiv in Kabel- und Glasfasertechnologie, Halbleitern, Automobilkomponenten sowie Elektronik- und Werkstofftechnik.

4.812 Patente in unserer Datenbank

🇯🇵 Tohoku University

Staatliche Universität in Sendai, Japan, mit Forschungsschwerpunkten unter anderem in Materialwissenschaften und Werkstofftechnik.

837 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von