Negative-type active-ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition for organic solvent development, resist film, pattern-forming method, and electronic device production method

WO2020137918 Art A1 2. Juli 2020

Anmelder: FUJIFILM CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020137918
Aktenzeichen: EP19902491
Anmeldetag: 20. Dezember 2019
Veröffentlichung: 2. Juli 2020
Rechtsraum: WO
IPC: C08F224/00C08F228/06G03F7/004G03F7/038G03F7/039G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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