Actinic light sensitive or radiation sensitive resin composition, resist film, pattern forming method, and electronic device production method

WO2020137921 Art A1 2. Juli 2020

Anmelder: FUJIFILM CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020137921
Aktenzeichen: EP19905955
Anmeldetag: 20. Dezember 2019
Veröffentlichung: 2. Juli 2020
Rechtsraum: WO
IPC: C07C43/10C07C43/11C07C43/13C07C43/20C07C47/04C07C47/06C07C47/12C07C47/14C07C47/21C07C69/16C07C205/44C07D335/02G03F7/004G03F7/039G03F7/20C07D303/48C07D307/68

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik Organische Chemie

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