Reflective mask blank, reflective mask and method for producing semiconductor device

WO2020137928 Art A1 2. Juli 2020

Anmelder: HOYA CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020137928
Aktenzeichen: EP19903746
Anmeldetag: 23. Dezember 2019
Veröffentlichung: 2. Juli 2020
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/24G03F1/58C23C14/06

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: HOYA CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik Optik & Fototechnik

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