Chemical amplification positive type photosensitive resin composition, photosensitive dry film, photosensitive dry film manufacturing method, patterned resist film manufacturing method, mold-provided substrate manufacturing method, and plated molded object manufacturing method

WO2020138236 Art A1 2. Juli 2020

Anmelder: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020138236
Aktenzeichen: EP19901645
Anmeldetag: 25. Dezember 2019
Veröffentlichung: 2. Juli 2020
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004G03F7/039G03F7/20H05K3/18

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Ohka Kogyo

Tokyo Ohka Kogyo (TOK) ist ein japanischer Chemiekonzern, der vor allem Fotolacke und Materialien für die Halbleiterfertigung herstellt. Das Portfolio konzentriert sich entsprechend auf Optik und Fototechnik sowie Halbleiter- und Bauelemente-Technik, ergänzt durch Kunststoff- und organische Chemie. Anmeldungen sind von 2000 bis in die Gegenwart belegt.

927 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von