Reduction of condensed gases on chamber walls via heated chamber housing for semiconductor processing equipment

WO2020142155 Art A1 9. Juli 2020

Anmelder: AXCELIS TECHNOLOGIES, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2020142155
Aktenzeichen
EP19828425
Anmeldetag
4. Dezember 2019
Veröffentlichung
9. Juli 2020
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/67H01L21/677H01L21/687
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
AXCELIS TECHNOLOGIES, INC.
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Axcelis Technologies

Axcelis Technologies, Inc. ist ein US-amerikanischer Hersteller von Ionenimplantationsanlagen für die Halbleiterfertigung mit Sitz in Beverly, Massachusetts. Das Patentportfolio ist fast vollständig auf Halbleiter und elektrische Bauelemente konzentriert, ergänzt um Oberflächentechnik und Mess- und Prüftechnik. Das Unternehmen meldet durchgehend seit 2000 an.

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