Reduction of condensed gases on chamber walls via purge gas dilution and evacuation for semiconductor processing equipment

WO2020142159 Art A1 9. Juli 2020

Anmelder: AXCELIS TECHNOLOGIES, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020142159
Aktenzeichen: EP19828117
Anmeldetag: 5. Dezember 2019
Veröffentlichung: 9. Juli 2020
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/67H01L21/3105

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: AXCELIS TECHNOLOGIES, INC.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Axcelis Technologies

Axcelis Technologies, Inc. ist ein US-amerikanischer Hersteller von Ionenimplantationsanlagen für die Halbleiterfertigung mit Sitz in Beverly, Massachusetts. Das Patentportfolio ist fast vollständig auf Halbleiter und elektrische Bauelemente konzentriert, ergänzt um Oberflächentechnik und Mess- und Prüftechnik. Das Unternehmen meldet durchgehend seit 2000 an.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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