Distance measurement between gas distribution device and substrate support at high temperatures
WO2020142367
Art A1
9. Juli 2020
Anmelder: LAM RESEARCH CORPORATION 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2020142367
- Aktenzeichen
- EP19907506
- Anmeldetag
- 27. Dezember 2019
- Veröffentlichung
- 9. Juli 2020
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C23C16/52C23C16/455G01B11/02G01B11/14H01J37/32
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- LAM RESEARCH CORPORATION
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Lam Research
US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.
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Vertreten von
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