Large-area nano-lithography system and method therefor
WO2020143294
Art A1
16. Juli 2020
Anmelder: SVG TECH GROUP CO., LTD, SOOCHOW UNIVERSITY 🇨🇳
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2020143294
- Aktenzeichen
- EP19908444
- Anmeldetag
- 7. November 2019
- Veröffentlichung
- 16. Juli 2020
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F9/00G03F7/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- SVG TECH GROUP CO., LTD
SOOCHOW UNIVERSITY - Land
- 🇨🇳 China
🇨🇳
Soochow University
Soochow University ist eine staatliche Universität in Suzhou, China, mit breitem Fächerspektrum einschließlich Materialwissenschaft und Chemie.
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