Production method for micro-display substrate
WO2020145186
Art A1
16. Juli 2020
Anmelder: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2020145186
- Aktenzeichen
- EP19909541
- Anmeldetag
- 26. Dezember 2019
- Veröffentlichung
- 16. Juli 2020
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G02B27/02G09F9/00G09F9/30H01L21/02H01L21/304H01L27/12G02F1/13G02F1/1343G02F1/1368
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
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