Substrate, selective film deposition method, deposition film of organic matter, and organic matter

WO2020145269 Art A1 16. Juli 2020

Anmelder: CENTRAL GLASS COMPANY, LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020145269
Aktenzeichen: EP20738299
Anmeldetag: 7. Januar 2020
Veröffentlichung: 16. Juli 2020
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/04C23C28/00H01L21/285H01L21/312

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: CENTRAL GLASS COMPANY, LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Central Glass

Japanisches Unternehmen mit Sitz in Tokio, das Flachglas, Spezialglas sowie Fluorchemikalien für Industrie und Bauwesen herstellt.

1.099 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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