Film forming composition, resist composition, radiation-sensitive composition, method for producing amorphous film, resist pattern formation method, composition for forming lower layer film for lithography, method for producing lower layer film for lithography, and circuit pattern formation method
WO2020145406
Art A1
16. Juli 2020
Anmelder: MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2020145406
- Aktenzeichen
- EP20738733
- Anmeldetag
- 10. Januar 2020
- Veröffentlichung
- 16. Juli 2020
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C08G61/12G03F7/023G03F7/038G03F7/039G03F7/11G03F7/20H01L21/28H01L21/027
Abstract
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Anmelder
- Firma
- MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Mitsubishi Gas Chemical Company
Japanisches Chemieunternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Fokus auf technische Kunststoffe, Methanol und Spezialchemikalien. Der Konzern beliefert unter anderem die Elektronik- und Verpackungsindustrie.
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