Defect classification and source analysis for semiconductor equipment
WO2020146708
Art A1
16. Juli 2020
Anmelder: LAM RESEARCH CORPORATION 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2020146708
- Aktenzeichen
- EP20739062
- Anmeldetag
- 10. Januar 2020
- Veröffentlichung
- 16. Juli 2020
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G01N21/95G01N21/88G06N3/04G06N3/08
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- LAM RESEARCH CORPORATION
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Lam Research
US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.
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