Forming high carbon content flowable dielectric film with low processing damage
WO2020148587
Art A1
23. Juli 2020
Anmelder: INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2020148587
- Aktenzeichen
- EP19910015
- Anmeldetag
- 12. Dezember 2019
- Veröffentlichung
- 23. Juli 2020
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/312H01L21/288H01L23/532
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
IBM
US-amerikanischer Technologiekonzern mit Sitz in Armonk, New York. International Business Machines entwickelt Hardware, Software, Cloud-Dienste sowie Lösungen für künstliche Intelligenz, Halbleiter und Unternehmens-IT.
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Vertreten von
Litherland, David Peter
Winchester, Großbritannien
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